Name: 9x9x0.3mm CVD mecánico Diamante crudo sin cortar Diamante sintético cultivado en laboratorio Semillas
Brand: Shaper Diamond Technology Co., Ltd
SKU: El JSD
Price: 1,000.00 USD
Availability: InStock

Inicio Productos Diamante mecánico CVD

9x9x0.3mm CVD mecánico Diamante crudo sin cortar Diamante sintético cultivado en laboratorio Semillas

9x9x0.3mm Mechanical CVD Diamond Raw Uncut Synthetic Lab Grown Diamond Seeds

Datos del producto:

Lugar de origen:	Hunan, China
Nombre de la marca:	Infi
Número de modelo:	El JSD

Pago y Envío Términos:

Cantidad de orden mínima:	10 PCS
Precio:	To be negotiated
Detalles de empaquetado:	Envasado en una caja y luego en cartón
Tiempo de entrega:	7 días laborables
Condiciones de pago:	T/T, Western Union y Paypal
Capacidad de la fuente:	100 piezas/7 días

Contacto

Descripción detallada del producto

Apoyo personalizado:

Producción de productos OEM, ODM

El color:

Sin color

orientación:

4pt/100

Aplicación:

Semillas de enfermedades cardiovasculares, investigación

Resaltar:

Diamante CVD mecánico sintético sin cortar

9x9x0.3 mm Diamante sin cortar de laboratorio

Diamante de laboratorio mecánico sin cortar

9x9x0.3mm Cvd Semilla de laboratorio Cvd Crecimiento crudo Diamante sin cortar Cvd Placa de diamante

Descripción del producto:

El diamante de cristal único CVD (deposición química de vapor) se refiere a un tipo de diamante que se produce utilizando el proceso CVD.una mezcla de gases que contienen carbono se descompone en condiciones controladas, lo que resulta en la formación de una sola capa cristalina de diamante en un sustrato.

El diamante de cristal único CVD es conocido por su excepcional dureza y conductividad térmica, lo que lo hace útil para una variedad de aplicaciones industriales y científicas,como herramientas de corte y molienda, disipadores de calor y componentes ópticos.

Dureza (micro-dureza): 80-150 GPa

El módulo de Young:1150 ∼130 OGPa

el coeficiente de fricción:0.05 ~ 0.05

Coeficiente de expansión térmica:10-.K-l

Conductividad térmica:1500-2000 w/ (m·K)

Detalles del producto:

Propiedades del diamante de cristal único CVD:

Dado que el diamante CVD no contiene catalizadores metálicos, su estabilidad térmica es cercana a la del diamante natural.Como el diamante policristalino sintetizado artificialmente a alta temperatura y alta presión., los granos de diamante CVD también están dispuestos en desorden, sin planos de escisión frágiles, por lo que son isotrópicos.

El uso del método de deposición de vapor químico asistido por plasma en microondas (MPACVD),el sistema de resonancia por microondas se utiliza para descomponer el gas que contiene carbono y el gas corrosivo a bajas y medianas presiones para generar plasma, y se diseña la estrategia de crecimiento del modelo de cristal de diamante de cristal único,para que el cristal de diamante se pueda utilizar El crecimiento homoepitaxial se logra en las direcciones de crecimiento 100 y 110 y 111 del cristal de semilla de diamante tipo IIb

Tamaño AvAilable:

Aplicación sugerida	Sustrados/semillas para el crecimiento de la enfermedad cardiovascular de cristal único
Proceso de crecimiento de cristales:	Enfermedades cardiovasculares
El color:	Sin color
Tamaño disponible:	3x3x0.3 4x4x0.3 5x5x0 y luego vamos a ver si podemos hacer esto.3 6x6x0.3 7x7x0.3 8x8x0.3 9x9x0.6 10x10x0.3 11x11x0 y luego vamos a ver si podemos hacer esto.3 12x12x0.3 13x13x0.3 15x15x0 y ahora vamos a hacer esto.3
Beneficios:	La longitud, el ancho y el grosor son todas tolerancias positivas,
	No hay manchas negras policristalinas, grietas bajo la lupa de 20x.
	El corte es perfecto sin pequeñas esquinas que faltan.
	La distribución de la tensión es uniforme bajo el polarizador.
Orientación:	4pt/100
Medidas de las dimensiones laterales	hacia el lado más pequeño
Fronteras	Cortado por láser
Orientación del borde	Los extremos < 100
Orientación facial	{100} las caras
Tolerancia lateral:	Tolerancia L + W (0, +0,3 mm), tolerancia de espesor (0, +0,1 mm).
Lado 1, rugosidad, Ra	Dos lados pulidos, Ra < 20 nm Un lado pulido, No pulidas
Concentración de boro [B]:	< 0,05 ppm
Concentración de nitrógeno:	< 20 ppm